A VET ENERGY desenvolveu uma nova matéria-prima de cristal único CVD SiC de alta pureza, preenchendo uma lacuna doméstica e alcançando uma posição de liderança global. Ao contrário do tradicional carboneto de silício, que é caro, de baixa pureza e de tamanho limitado, esta inovação garante qualidade superior e competitividade a longo prazo.
A tecnologia de leito fluidizado da VET ENERGY utiliza metiltriclorossilano para produzir matérias-primas de carboneto de silício (SiC) de alta pureza por meio de deposição química de vapor, tendo ácido clorídrico como principal subproduto. O subproduto pode ser neutralizado com álcali para evitar a poluição ambiental. Como um gás industrial amplamente disponível e econômico, o metiltriclorossilano é produzido principalmente na China, dando às matérias-primas CVD SiC de alta pureza da VeTek Semiconductor (pureza > 99,9995%) uma vantagem competitiva global em custo e qualidade.
Vantagens da matéria-prima CVD SiC de alta pureza
● Tamanho grande e alta densidade
O tamanho médio das partículas é de cerca de 4-10 mm, e o tamanho das partículas das matérias-primas domésticas Acheson é <2,5 mm. O mesmo cadinho de volume pode conter mais de 1,5 kg de matéria-prima, o que contribui para resolver o problema de fornecimento insuficiente de materiais de crescimento de cristais de grande porte, aliviando a grafitização das matérias-primas, reduzindo o envolvimento de carbono e melhorando a qualidade do cristal.
● Baixa relação Si/C
Está mais próximo de 1:1 do que as matérias-primas Acheson do método de autopropagação, o que pode reduzir os defeitos induzidos pelo aumento da pressão parcial do Si.
● Alto valor de saída
As matérias-primas cultivadas ainda mantêm o protótipo, reduzem a recristalização, reduzem a grafitização das matérias-primas, reduzem defeitos de embalagem de carbono e melhoram a qualidade dos cristais.
● Maior pureza
A pureza das matérias-primas produzidas pelo método CVD é superior à das matérias-primas Acheson do método de autopropagação. O teor de nitrogênio atingiu 0,09 ppm sem purificação adicional. Essa matéria-prima também pode desempenhar um papel importante na área de semi-isolantes.
● Menor custo
A taxa de evaporação uniforme facilita o controle de qualidade do processo e do produto, ao mesmo tempo que melhora a taxa de utilização de matérias-primas (taxa de utilização> 50%, 4,5 kg de matéria-prima produzem lingotes de 3,5 kg), reduzindo custos.
● Baixa taxa de erro humano
A deposição química de vapor evita impurezas introduzidas por
A matéria-prima CVD SiC de alta pureza é um produto avançado projetado para substituir o pó de SiC no cultivo de cristais únicos de SiC. Garante uma qualidade de cristal excepcional. Atualmente, a VeTek Semiconductor domina essa tecnologia e pode fornecer o produto ao mercado a um preço altamente competitivo.
